A Novel Low-Damage Methane-Based Plasma Ash Chemistry (CH4/Ar): Limiting Metal Barrier Diffusion into Porous Low-k Materials - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Electrochemical and Solid-State Letters Année : 2005

A Novel Low-Damage Methane-Based Plasma Ash Chemistry (CH4/Ar): Limiting Metal Barrier Diffusion into Porous Low-k Materials

Marielle Clot  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00397037

Soumis le : vendredi 19 juin 2009-13:56:44

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:30:01

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Dates et versions

hal-00397037 , version 1 (19-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00397037 , version 1

Citer

N. Possémé, T. David, T. Chevolleau, O. R. Joubert. A Novel Low-Damage Methane-Based Plasma Ash Chemistry (CH4/Ar): Limiting Metal Barrier Diffusion into Porous Low-k Materials. Electrochemical and Solid-State Letters, 2005, pp.Vol 8, (2005), G112-G114. ⟨hal-00397037⟩

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