Article Dans Une Revue
Journal of Applied Physics
Année : 2008
Richard BASCHERA : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00396748
Soumis le : jeudi 18 juin 2009-17:10:35
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12
Citer
C. Duquenne, Pierre-Yves Tessier, Marie-Paule Besland, Benoit Angleraud, Pierre-Yves Jouan, et al.. Impact of magnetron configuration on plasma and film properties of sputtered aluminum nitride thin films. Journal of Applied Physics, 2008, 104, pp.063301. ⟨10.1063/1.2978226⟩. ⟨hal-00396748⟩
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