Thickness-dependent glass transition temperature of thin resist films for high resolution lithography - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2006

Thickness-dependent glass transition temperature of thin resist films for high resolution lithography

S. Marceau
CV
J.H. Tortai
Laboratoire des technologies de la microélectronique
J. Tillier
  • Fonction : Auteur
N. Vourdas
  • Fonction : Auteur
E. Gogolides
  • Fonction : Auteur
I. Raptis
  • Fonction : Auteur
K. Beltsios
  • Fonction : Auteur
K. van Werden
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00394493

Soumis le : jeudi 11 juin 2009-19:46:37

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:09:13

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00394493 , version 1 (11-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00394493 , version 1

Citer

S. Marceau, J.H. Tortai, J. Tillier, N. Vourdas, E. Gogolides, et al.. Thickness-dependent glass transition temperature of thin resist films for high resolution lithography. Microelectronic Engineering, 2006, pp.83, 4-9 1073-1077. ⟨hal-00394493⟩

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