Evaluation of HfAlO high-k materials for control dielectric applications in non-volatile memories. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2008

Evaluation of HfAlO high-k materials for control dielectric applications in non-volatile memories.

G. Molas
  • Fonction : Auteur
Marc Bocquet
CV
J. Buckley
  • Fonction : Auteur
H. Grampeix
  • Fonction : Auteur
M. Gély
  • Fonction : Auteur
J.P. Colonna
  • Fonction : Auteur
F. Martin
  • Fonction : Auteur
P. Brianceau
  • Fonction : Auteur
V. Vidal
  • Fonction : Auteur
C. Bongiorno
  • Fonction : Auteur
S. Lombardo
  • Fonction : Auteur
G. Pananakakis
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
G. Ghibaudo
Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique - Laboratoire d'Hyperfréquences et Caractérisation
CV
B. de Salvo
  • Fonction : Auteur
S. Deleonibus
  • Fonction : Auteur

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

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https://hal.science/hal-00391751

Soumis le : jeudi 4 juin 2009-16:00:06

Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-21:27:22

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00391751 , version 1 (04-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00391751 , version 1

Citer

G. Molas, Marc Bocquet, J. Buckley, H. Grampeix, M. Gély, et al.. Evaluation of HfAlO high-k materials for control dielectric applications in non-volatile memories.. Microelectronic Engineering, 2008, 85, 2393-2399. ⟨hal-00391751⟩

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