TEM study of the silicidation process in Pt/Si and Ir/Si structures - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

TEM study of the silicidation process in Pt/Si and Ir/Si structures

A. Laszcz
  • Fonction : Auteur
J. Ratajczak
  • Fonction : Auteur
A. Czerwinski
  • Fonction : Auteur
J. Katcki
  • Fonction : Auteur
N. Breil
  • Fonction : Auteur
G. Larrieu
  • Fonction : Auteur
Emmanuel Dubois
Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
CV

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https://hal.science/hal-00367363

Soumis le : mercredi 11 mars 2009-10:08:27

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00367363 , version 1 (11-03-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00367363 , version 1

Citer

A. Laszcz, J. Ratajczak, A. Czerwinski, J. Katcki, N. Breil, et al.. TEM study of the silicidation process in Pt/Si and Ir/Si structures. Proceedings of the 15th International Conference on Microscopy of Semiconducting Materials, MSMXV, 2007, Cambridge, United Kingdom. ⟨hal-00367363⟩

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