Deposition of thin SiO_x films by direct precursor in atmospheric pressure microwave torch (TIA) - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Deposition of thin SiO_x films by direct precursor in atmospheric pressure microwave torch (TIA)

Martine Segear  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00366940

Soumis le : mardi 10 mars 2009-09:41:59

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:12

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00366940 , version 1 (10-03-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00366940 , version 1

Citer

S.S. Asad, Christelle Dublanche-Tixier, Cédric Jaoul, Christophe Chazelas, Pascal Tristant, et al.. Deposition of thin SiO_x films by direct precursor in atmospheric pressure microwave torch (TIA). Eleventh International Conference on Plasma Surface Engineering, PSE 2008, Sep 2008, Garmisch-Partenkirchen, Germany. ⟨hal-00366940⟩

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