Etude des mécanismes de la croissance et du dopage de nanofils de silicium

W. M. Chen; P. Pareige; E. Cadel; R. Larde; T. Xu; B. Grandidier; D. Stievenard

Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Etude des mécanismes de la croissance et du dopage de nanofils de silicium

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1

W. M. Chen

Fonction : Auteur

P. Pareige

Fonction : Auteur
PersonId : 174539
IdHAL : philippe-pareige
ORCID : 0000-0002-5468-0887
IdRef : 140697489

E. Cadel

Fonction : Auteur
PersonId : 170763
IdHAL : emmanuel-cadel

R. Larde

Fonction : Auteur
PersonId : 174555
IdHAL : rodrigue-larde
IdRef : 099050978

CV

T. Xu

Fonction : Auteur

B. Grandidier

Fonction : Auteur
PersonId : 740217
IdHAL : bruno-grandidier
ORCID : 0000-0001-6131-7309
IdRef : 084580135

Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520

CV

D. Stievenard

Fonction : Auteur
PersonId : 747967
IdHAL : didier-stievenard

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https://hal.science/hal-00361981

Soumis le : mardi 17 février 2009-09:08:44

Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18

Dates et versions

hal-00361981 , version 1 (17-02-2009)

Identifiants

HAL Id : hal-00361981 , version 1

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W. M. Chen, P. Pareige, E. Cadel, R. Larde, T. Xu, et al.. Etude des mécanismes de la croissance et du dopage de nanofils de silicium. 1ères Journées Nanosciences Nord-Ouest, J2NO 2008, 2008, Poitiers, France. ⟨hal-00361981⟩

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