Fabrication technology and device performance of ultra-short 30-nm-gate pseudomorphic In0.52Al0.48As/In0.75Ga0.25As HEMTs - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Fabrication technology and device performance of ultra-short 30-nm-gate pseudomorphic In0.52Al0.48As/In0.75Ga0.25As HEMTs

A. Shchepetov
  • Fonction : Auteur
I. Duszynski
  • Fonction : Auteur
Yannick Roelens
X. Wallart
Gilles Dambrine
A. Cappy
S. Bollaert
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00360404 , version 1 (11-02-2009)

Identifiants

Citer

Nicolas Wichmann, A. Shchepetov, I. Duszynski, Yannick Roelens, X. Wallart, et al.. Fabrication technology and device performance of ultra-short 30-nm-gate pseudomorphic In0.52Al0.48As/In0.75Ga0.25As HEMTs. IEEE 20th Conference on Indium Phosphide and Related Materials, IPRM'08, 2008, France. pp.1-4, ⟨10.1109/ICIPRM.2008.4702912⟩. ⟨hal-00360404⟩
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