Growth of thick AlN layers by High Temperature CVD

A. Claudel (1) , E. Blanquet (1) , D. Chaussende (2) , M. Audier (2) , D. Pique , M. Pons (1)

1 SIMaP - Science et Ingénierie des Matériaux et Procédés
2 LMGP - Laboratoire des matériaux et du génie physique

Domaines: Matériaux

A. Claudel, E. Blanquet, D. Chaussende, M. Audier, D. Pique, et al.. Growth of thick AlN layers by High Temperature CVD. Internatinal Conference on Silicon Carbide and Related Materials, ICSCRM2007, 2007, Otsu, Japan. pp.1269-1272. ⟨hal-00337372⟩