Reactive sputtering of TiOxNy coatings by the reactive gas pulsing process – Part I : pattern and period of pulses - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Surface and Coatings Technology Année : 2007

Reactive sputtering of TiOxNy coatings by the reactive gas pulsing process – Part I : pattern and period of pulses

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Matériaux

Nicolas Martin  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00268078

Soumis le : lundi 31 mars 2008-10:44:57

Dernière modification le : jeudi 13 avril 2023-09:26:11

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00268078 , version 1 (31-03-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00268078 , version 1

Citer

Nicolas Martin, Jan Lintymer, Joseph Gavoille, Jean-Marie Chappe, Fabrice Sthal, et al.. Reactive sputtering of TiOxNy coatings by the reactive gas pulsing process – Part I : pattern and period of pulses. Surface and Coatings Technology, 2007, 201, pp.7720-7726. ⟨hal-00268078⟩

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