SrTiO3 and HfO2-based high-K oxides on silicon for microelectronic applications - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

SrTiO3 and HfO2-based high-K oxides on silicon for microelectronic applications

C. Dubourdieu
  • Fonction : Auteur
O. Salicio
  • Fonction : Auteur
E. Rauwel
  • Fonction : Auteur
I. Matko
  • Fonction : Auteur
F. Ducroquet
M. D. Rossel
  • Fonction : Auteur
G. van Tendeloo
  • Fonction : Auteur
N. Rochat
  • Fonction : Auteur
S. Daniele
Institut de recherches sur la catalyse et l'environnement de Lyon

Domaines

Environnement et Société Catalyse

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https://hal.science/hal-00205121

Soumis le : mercredi 16 janvier 2008-12:01:43

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00205121 , version 1 (16-01-2008)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00205121 , version 1

Citer

C. Dubourdieu, O. Salicio, E. Rauwel, I. Matko, F. Ducroquet, et al.. SrTiO3 and HfO2-based high-K oxides on silicon for microelectronic applications. International Symposium on Integrated Ferroelectrics, 2007, Bordeaux, France. ⟨hal-00205121⟩

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