Chalcogenide thin films deposited by redaio-frequency sputtering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Optoelectronics and Advanced Materials Année : 2004

Chalcogenide thin films deposited by redaio-frequency sputtering

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Caroline Vigreux  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-00185459

Soumis le : mardi 6 novembre 2007-10:24:06

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:13

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00185459 , version 1 (06-11-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00185459 , version 1

Citer

Viorel Balan, Caroline Vigreux, Annie Pradel. Chalcogenide thin films deposited by redaio-frequency sputtering. Journal of Optoelectronics and Advanced Materials, 2004, 6 (3), pp.875. ⟨hal-00185459⟩

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