Characterization of R.F. sputtered vanadium oxide thin films and intercalation of lithium in the oxide films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Electrochemistry Année : 2004

Characterization of R.F. sputtered vanadium oxide thin films and intercalation of lithium in the oxide films

Naoaki Kumagai
  • Fonction : Auteur
Shinichi Komaba
  • Fonction : Auteur
Osamu Nakano
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Mamoru Baba
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Henri Groult
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Soumis le : mardi 17 juillet 2007-16:32:54

Dernière modification le : vendredi 19 avril 2024-16:18:54

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Dates et versions

hal-00163574 , version 1 (17-07-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00163574 , version 1

Citer

Naoaki Kumagai, Shinichi Komaba, Osamu Nakano, Mamoru Baba, Henri Groult, et al.. Characterization of R.F. sputtered vanadium oxide thin films and intercalation of lithium in the oxide films. Electrochemistry, 2004, 72, pp.261. ⟨hal-00163574⟩

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