Shallow junction engineering by phosphorus and carbon co-implantation: optimization of carbon dose and energy - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007

Shallow junction engineering by phosphorus and carbon co-implantation: optimization of carbon dose and energy

N. Cagnat
  • Fonction : Auteur
Institut d'Electronique du Solide et des Systèmes
C. Laviron
  • Fonction : Auteur
D. Mathiot
  • Fonction : Auteur
Institut d'Electronique du Solide et des Systèmes
C. Rando
  • Fonction : Auteur
M. Juhel
  • Fonction : Auteur
J. Singer
  • Fonction : Auteur
F. Salvetti
  • Fonction : Auteur
C. Wyon
  • Fonction : Auteur
K. Dutème
  • Fonction : Auteur

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https://hal.science/hal-00162328

Soumis le : vendredi 13 juillet 2007-11:10:28

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:49

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00162328 , version 1 (13-07-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00162328 , version 1

Citer

N. Cagnat, C. Laviron, D. Mathiot, C. Rando, M. Juhel, et al.. Shallow junction engineering by phosphorus and carbon co-implantation: optimization of carbon dose and energy. Material Research Society (MRS) Spring Meeting, Symposium on Semiconductor Defect Engineering: Materials, Synthetic Structures, and Devices II, 2007, San Francisco, United States. 994, p. F08-04. ⟨hal-00162328⟩

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