Laser damage resistance of silica thin films deposited by electron beam deposition, ion assisted deposition, reactive low voltage ion plating and dual ion beam sputtering - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2007

Laser damage resistance of silica thin films deposited by electron beam deposition, ion assisted deposition, reactive low voltage ion plating and dual ion beam sputtering

Laurent Gallais
Helene Krol
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832176
Jean-Yves Natoli
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832180
Mireille Commandre
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832173
Michel Cathelinaud
Luc Roussel
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832179
Michel Lequime
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 832181
Claude Amra
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00104671 , version 1 (09-10-2006)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00104671 , version 1

Citer

Laurent Gallais, Helene Krol, Jean-Yves Natoli, Mireille Commandre, Michel Cathelinaud, et al.. Laser damage resistance of silica thin films deposited by electron beam deposition, ion assisted deposition, reactive low voltage ion plating and dual ion beam sputtering. Thin Solid Films, 2007, 515, pp.3830-3836. ⟨hal-00104671⟩
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