Communication Dans Un Congrès
Année : 2006
Evelyne Coudert : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00098657
Soumis le : lundi 25 septembre 2006-17:40:45
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:48
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00098657 , version 1
Citer
Amaël Caillard, Christine Charles, Rod W. Boswell, Devin Ramdutt, O. Sutherland, et al.. Porous carbon thin film plasma CVD deposition. 6th Intern. Conf. on Reactive Plasmas and 23rd Symp. on Plasma Processing, 2006, Matsushima-Sendai, Japan. ⟨hal-00098657⟩
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