Communication Dans Un Congrès
Année : 2001
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https://hal.science/hal-00009935
Soumis le : vendredi 7 octobre 2005-12:12:34
Dernière modification le : vendredi 4 août 2023-15:09:31
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00009935 , version 1
Citer
J. Keranen, S. Ek, E. Iiskola, A. Auroux, L. Niinisto. Controlled formation of thin V2O5 layers on silica by atomic layer deposition. 2001, pp.CD-Rom. ⟨hal-00009935⟩
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