Communication Dans Un Congrès
Année : 2019
Thomas Tillocher : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02311323
Soumis le : jeudi 10 octobre 2019-18:09:01
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:12
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02311323 , version 1
Citer
Gaëlle Antoun, Gaelle Antoun, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart, et al.. Atomic Layer Etching at cryogenic temperature. Plasma Thin Film International Union Meeting, Sep 2019, Antibes, France. ⟨hal-02311323⟩
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