The role of physisorption in the cryogenic etching process of silicon
Gaelle Antoun
(1)
,
Rémi Dussart
(1)
,
Thomas Tillocher
(1)
,
Philippe Lefaucheux
(1)
,
Christophe Cardinaud
(2)
,
Aurélie Girard
(2)
,
Shigeru Tahara
(3)
,
Kumiko Yamazaki
(3)
,
Koichi Yatsuda
(3)
,
Jacques Faguet
(4)
,
Kaoru Maekawa
(4)
Gaelle Antoun
- Fonction : Auteur
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Rémi Dussart
- Fonction : Auteur
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Thomas Tillocher
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Philippe Lefaucheux
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