Influence of substrate-induced thermal stress on the superconducting properties of V 3 Si thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2021

Dates et versions

hal-03166557 , version 1 (11-03-2021)

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Citer

T. Vethaak, F. Gustavo, T. Farjot, T. Kubart, P. Gergaud, et al.. Influence of substrate-induced thermal stress on the superconducting properties of V 3 Si thin films. Journal of Applied Physics, 2021, 129 (10), pp.105104. ⟨10.1063/5.0038638⟩. ⟨hal-03166557⟩
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