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Communication Dans Un Congrès Année : 2021

Roughness measurement of 2D curvilinear patterns: challenges and advanced methodology

Jonathan Pradelles
  • Fonction : Auteur
Loïc Perraud
  • Fonction : Auteur
Aurélien Fay
  • Fonction : Auteur
Jean-Baptiste Henry
  • Fonction : Auteur
Jessy Bustos
  • Fonction : Auteur
Estelle Guyez
  • Fonction : Auteur
Sébastien Berard-Bergery
  • Fonction : Auteur
Aurélie Le Pennec
  • Fonction : Auteur
Mohamed Abaidi
  • Fonction : Auteur
Jordan Belissard
  • Fonction : Auteur
Nivea Schuch
  • Fonction : Auteur
Thiago Figueiro
  • Fonction : Auteur
Matthieu Millequant
  • Fonction : Auteur
Patrick Schiavone
Minatec

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique
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hal-03156564 , version 1 (02-03-2021)

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Citer

Jonathan Pradelles, Loïc Perraud, Aurélien Fay, Jean-Baptiste Henry, Jessy Bustos, et al.. Roughness measurement of 2D curvilinear patterns: challenges and advanced methodology. SPIE Advanced Lithography,, Feb 2021, Online Only, France. pp.30, ⟨10.1117/12.2583843⟩. ⟨hal-03156564⟩

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