Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2009
Miguel Rubio-Roy : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02017540
Soumis le : mercredi 13 février 2019-11:20:28
Dernière modification le : jeudi 29 avril 2021-13:46:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02017540 , version 1
Citer
S. Portal, Miguel Rubio-Roy, C. Corbella, M. Vallvé, J. Ignes-Mullol, et al.. Influence of incident ion beam angle on dry etching of silica sub-micron particles deposited on Si substrates. Thin Solid Films, 2009, 518 (5), pp.1543-1548. ⟨hal-02017540⟩
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