High temperature oxidation of high purity nickel : oxide scale morphology and growth kinetics - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Materials at High Temperatures Année : 2003

High temperature oxidation of high purity nickel : oxide scale morphology and growth kinetics

Raphaëlle Peraldi
  • Fonction : Auteur
Daniel Monceau
Sylvain Jean
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01851443 , version 1 (30-07-2018)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01851443 , version 1

Citer

Raphaëlle Peraldi, Daniel Monceau, Sylvain Jean, Bernard Pieraggi. High temperature oxidation of high purity nickel : oxide scale morphology and growth kinetics. Materials at High Temperatures, 2003, 20 (n° 4 special issue), p.649-655. ⟨hal-01851443⟩
21 Consultations
0 Téléchargements

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More