High-Temperature Kinetics of AlCl3 Decomposition in the Presence of Additives for Chemical Vapor Deposition - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2001

High-Temperature Kinetics of AlCl3 Decomposition in the Presence of Additives for Chemical Vapor Deposition

L. Catoire
Unité de Chimie et Procédés
CV
Mark T. Swihart
  • Fonction : Auteur
State University of New York

Domaines

Chimie Chimie théorique et/ou physique

Laurent Catoire  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-01665675

Soumis le : samedi 16 décembre 2017-16:00:19

Dernière modification le : mercredi 11 mai 2022-15:22:02

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-01665675 , version 1 (16-12-2017)

Identifiants

  • HAL Id : hal-01665675 , version 1

Citer

L. Catoire, Mark T. Swihart. High-Temperature Kinetics of AlCl3 Decomposition in the Presence of Additives for Chemical Vapor Deposition . Second International Symposium on Fundamental Gas-Phase and Surface Chemistry of Vapor-Phase Deposition, 199th Meeting of the Electrochemical Society, 2001, Washington, DC, United States. ⟨hal-01665675⟩

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