Communication Dans Un Congrès
Année : 2005
Katell Kervella : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-00775877
Soumis le : lundi 14 janvier 2013-16:25:58
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:56
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-00775877 , version 1
Citer
Olivier de Sagazan, E. Prodhome, D. Gaudin, Matthieu Denoual, P. Guil, et al.. Amorphous Si Deposition Method Thanks Traditional PECVD Insulator Equipments For Seed Layers Performing. Int. Conf. on Microtechnologies for the New Millenium 2005, May 2005, Seville, Spain. ⟨hal-00775877⟩
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