Evaluation of a SrTiO3 sublayer for the integration of ferroelectric material KTN thin films in silicon technology - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2007
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00438436 , version 1 (03-12-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00438436 , version 1

Citer

Annie Guiller, Arnaud-Gides Moussavou, Maryline Guilloux-Viry, Ronan Sauleau, Kouroch Mahdjoubi, et al.. Evaluation of a SrTiO3 sublayer for the integration of ferroelectric material KTN thin films in silicon technology. E-MRS 2007, May 2007, Strasbourg, France. ⟨hal-00438436⟩
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