Effect of sputtering rate and ion irradiation on the microstructure and magnetic properties of Ni/Si3N4 multilayers - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 2005

Effect of sputtering rate and ion irradiation on the microstructure and magnetic properties of Ni/Si3N4 multilayers

M. Vila
C. Prieto
  • Fonction : Auteur
A. Traverse
  • Fonction : Auteur
Laboratoire de Chimie Physique D'Orsay
R. Ramirez
  • Fonction : Auteur

Domaines

Chimie-Physique [physics.chem-ph]

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Soumis le : vendredi 19 janvier 2007-14:56:56

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Dates et versions

hal-00125435 , version 1 (19-01-2007)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00125435 , version 1

Citer

M. Vila, C. Prieto, A. Traverse, R. Ramirez. Effect of sputtering rate and ion irradiation on the microstructure and magnetic properties of Ni/Si3N4 multilayers. Journal of Applied Physics, 2005, 98 (11), pp.Art. No. 113507. ⟨hal-00125435⟩

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