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Nitrure d'aluminium de différentes morphologies obtenu à basse température par PACVD

Résumé : Le dépôt chimique en phase vapeur d'organo-métalliques assisté d'un plasma réactif conduit à des revêtements cristallins de nitrure d'aluminium ayant une orientation préférentielle (10$\bar{1}$0) marquée. La dimension des cristallites dépend de la fréquence d'excitation plasma et est indépendante de la nature du substrat. Les revêtements, caractérisés par diffraction des rayons X, spectroscopies infrarouge et des électrons Auger, montrent une composition AlN. L'interphase AIN/Si a fait l'objet d'une étude particulière par microscopie électronique à transmission.
Document type :
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https://hal.archives-ouvertes.fr/jpa-00248952
Contributor : Archives Journal de Physique Connect in order to contact the contributor
Submitted on : Friday, January 1, 1993 - 8:00:00 AM
Last modification on : Wednesday, February 17, 2021 - 3:01:13 AM
Long-term archiving on: : Monday, May 17, 2010 - 5:39:41 PM

File

ajp-jp3v3p713.pdf
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AJP

Citation

Jean Durand, Nathalie Azéma, Bemard Cros, Louis Cot. Nitrure d'aluminium de différentes morphologies obtenu à basse température par PACVD. Journal de Physique III, EDP Sciences, 1993, 3 (4), pp.713-727. ⟨10.1051/jp3:1993158⟩. ⟨jpa-00248952⟩

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