ORDERING PROCESS OF SPUTTERED AMORPHOUS THIN FILMS OF Al Mn UNDER THERMAL TREATMENTS - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Journal de Physique Colloques Année : 1986

ORDERING PROCESS OF SPUTTERED AMORPHOUS THIN FILMS OF Al Mn UNDER THERMAL TREATMENTS

A. Chenoufi
  • Fonction : Auteur
B. Bouchet
  • Fonction : Auteur
J. Dixmier
  • Fonction : Auteur
C. Ecolivet

Résumé

We report here preliminary results on an attempt to prepare Al-Mn quasi crystalline thin films by cathodic sputtering. Starting from as deposited amorphous materials we have carried out successive in situ annealings of the sample in the electron microscope. The result is that, if moderate heating leads to crystalline phases, an a posteriori strong local irradiation by the electron beam can transform these crystals into a T phase with numerous defects.

Domaines

Articles anciens
Fichier principal
Vignette du fichier
ajp-jphyscol198647C349.pdf (926.42 Ko) Télécharger le fichier
Origine : Accord explicite pour ce dépôt
Loading...

Dates et versions

jpa-00225761 , version 1 (04-02-2008)

Identifiants

Citer

A. Chenoufi, B. Bouchet, J. Dixmier, C. Ecolivet. ORDERING PROCESS OF SPUTTERED AMORPHOUS THIN FILMS OF Al Mn UNDER THERMAL TREATMENTS. Journal de Physique Colloques, 1986, 47 (C3), pp.C3-485-C3-488. ⟨10.1051/jphyscol:1986349⟩. ⟨jpa-00225761⟩

Collections

AJP
8 Consultations
66 Téléchargements

Altmetric

Partager

Gmail Facebook X LinkedIn More