Application de la gravure plasma à la réalisation des composants micro-nanoélectroniques à base du Si au sein de la centrale technologique de l’IEMN

Dmitri Yarekha (1, 2)

1 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
2 CMNF - IEMN - Centrale de Micro Nano Fabrication - IEMN

Mots clés: Dry etching

Domaines: Sciences de l'ingénieur [physics]

Dmitri Yarekha. Application de la gravure plasma à la réalisation des composants micro-nanoélectroniques à base du Si au sein de la centrale technologique de l’IEMN. Colloque LN2, Jul 2018, Autrans, France. 2018. ⟨hal-03635053⟩