Communication Dans Un Congrès
Année : 2019
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https://hal.science/hal-03635045
Soumis le : vendredi 8 avril 2022-10:43:07
Dernière modification le : mercredi 24 janvier 2024-09:54:18
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03635045 , version 1
Citer
Arnaud Pageau, Garrett Curley, Pascal Tilmant, Francois Vaurette, Dmitri Yarekha. Study of Various PhotoResist for Bosch Process. Euronanolab Dry Etch Expert meeting, Dec 2019, Saclay, France. ⟨hal-03635045⟩
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