L’émergence de procédés d’écriture laser 3D dans les technologies silicium - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Photoniques Année : 2022

L’émergence de procédés d’écriture laser 3D dans les technologies silicium

Résumé

Les lasers femtosecondes sont à la base des technologies d’écriture 3D permettant l'intégration de nombreuses fonctionnalités micro-optiques, fluidiques et mécaniques à l'intérieur des matériaux diélectriques transparents. Cependant, des défis importants restent à relever pour transposer ces technologies dans le silicium et les semiconducteurs avec les nouvelles sources infrarouges intenses. La forte non-linéarité de propagation inhérente aux semi-conducteurs limite intrinsèquement la localisation de l'énergie lumineuse à un niveau en dessous des régimes d’écriture dans les configurations conventionnelles. L’émergence récente de solutions à ce problème ouvre de nouveaux champs d’applications notamment dans la photonique sur silicium.
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Dates et versions

hal-03597399 , version 1 (04-03-2022)

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Citer

David Grojo. L’émergence de procédés d’écriture laser 3D dans les technologies silicium. Photoniques, 2022, 112, pp.37 - 42. ⟨10.1051/photon/202211237⟩. ⟨hal-03597399⟩
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