Kinetic Modelling of Electroless Nickel–Phosphorus Plating under High Pressure

Aurélie Galfré; Hirotaka Yokohama; Mélaz Tayakout-Fayolle; Naoki Fukumuro; Shinji Yae; Kouji Maeda; Takuji Yamamoto

doi:10.1021/acsomega.0c00312

Article Dans Une Revue ACS Omega Année : 2020

Kinetic Modelling of Electroless Nickel–Phosphorus Plating under High Pressure

(1) , , , , , ,

1

Aurélie Galfré

Fonction : Auteur
PersonId : 21907
IdHAL : aurelie-galfre
ORCID : 0000-0001-7197-8733
IdRef : 178378739

Laboratoire d'automatique et de génie des procédés

CV

Hirotaka Yokohama

Fonction : Auteur

Mélaz Tayakout-Fayolle

Fonction : Auteur
PersonId : 172627
IdHAL : melaz-tayakout-fayolle
ORCID : 0000-0002-0667-3535
IdRef : 085819964

Naoki Fukumuro

Fonction : Auteur

Shinji Yae

Fonction : Auteur

Kouji Maeda

Fonction : Auteur

Takuji Yamamoto

Fonction : Auteur
PersonId : 820310
ORCID : 0000-0002-6720-6789

Domaines

Génie des procédés Génie chimique

Aurélie GALFRE : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03524622

Soumis le : jeudi 13 janvier 2022-12:34:21

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:25

Dates et versions

hal-03524622 , version 1 (13-01-2022)

Identifiants

HAL Id : hal-03524622 , version 1
DOI : 10.1021/acsomega.0c00312
PUBMEDCENTRAL : PMC7114698

Citer

Aurélie Galfré, Hirotaka Yokohama, Mélaz Tayakout-Fayolle, Naoki Fukumuro, Shinji Yae, et al.. Kinetic Modelling of Electroless Nickel–Phosphorus Plating under High Pressure. ACS Omega, 2020, 5 (12), pp.6937-6946. ⟨10.1021/acsomega.0c00312⟩. ⟨hal-03524622⟩

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