Reaction Mechanisms in Laser-assisted Chemical Vapor Deposition of Microstructures - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue NATO ASI Ser., Ser. 2 Année : 2002

Reaction Mechanisms in Laser-assisted Chemical Vapor Deposition of Microstructures

D. Tonneau
Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
CV
Y. Pauleau
  • Fonction : Auteur

Domaines

Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Didier Tonneau  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-03523769

Soumis le : mercredi 12 janvier 2022-20:20:55

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:25

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Dates et versions

hal-03523769 , version 1 (12-01-2022)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03523769 , version 1

Citer

D. Tonneau, Y. Pauleau. Reaction Mechanisms in Laser-assisted Chemical Vapor Deposition of Microstructures. NATO ASI Ser., Ser. 2, 2002, 55, pp.223-254. ⟨hal-03523769⟩

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