Optimising GaN heterostructures for 5G - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Autre Publication Scientifique Année : 2020

Optimising GaN heterostructures for 5G

Résumé

Combining AlN or InAlN barriers with SiN passivation layers leads to exceptional performance for GaN RF devices, regardless of the choice of substrate.

Mots clés

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03342380 , version 1 (13-09-2021)

Identifiants

  • HAL Id : hal-03342380 , version 1

Citer

Markus Behet, Joff Derluyn, Stefan Degroote, Marianne Germain, F Medjdoub. Optimising GaN heterostructures for 5G. Compound Semiconductors, 26, 1, 2020. ⟨hal-03342380⟩
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