Rapid thermal processing of piezoresistive polycrystalline silicon films: An innovative technology for low cost pressure sensor fabrication - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Sensors and Actuators A: Physical Année : 1995

Rapid thermal processing of piezoresistive polycrystalline silicon films: An innovative technology for low cost pressure sensor fabrication

B. Semmache
  • Fonction : Auteur
M. Lemiti
  • Fonction : Auteur
P. Kleimann
  • Fonction : Auteur
Martine Le Berre
D. Barbier
  • Fonction : Auteur
P. Pinard
  • Fonction : Auteur

Dates et versions

hal-03328884 , version 1 (30-08-2021)

Identifiants

Citer

B. Semmache, M. Lemiti, P. Kleimann, Martine Le Berre, D. Barbier, et al.. Rapid thermal processing of piezoresistive polycrystalline silicon films: An innovative technology for low cost pressure sensor fabrication. Sensors and Actuators A: Physical , 1995, 46 (1-3), pp.76-81. ⟨10.1016/0924-4247(94)00865-F⟩. ⟨hal-03328884⟩
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