Streaming and removal forces due to second-order sound field during megasonic cleaning of silicon wafers

Jerome O. Vasseur (1, 2) , P. Deymier (3) , J. Vasseur (4) , A. Khelif (5) , Bahram Djafari-Rouhani (6) , L. Dobrzynski , S. Raghavan (7)

1 ACOUSTIQUE - IEMN - Acoustique - IEMN
2 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
3 Department of Materials Science and Engineering
4 GENIAL - Génie industriel alimentaire
5 FEMTO-ST - Franche-Comté Électronique Mécanique, Thermique et Optique - Sciences et Technologies (UMR 6174)
6 IEMN - Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520
7 Ex-IMD

Domaines: Sciences de l'ingénieur [physics]; Physique [physics]

Jerome O. Vasseur, P. Deymier, J. Vasseur, A. Khelif, Bahram Djafari-Rouhani, et al.. Streaming and removal forces due to second-order sound field during megasonic cleaning of silicon wafers. Journal of Applied Physics, 2000, 88 (11), pp.6821-6835. ⟨10.1063/1.1323521⟩. ⟨hal-03301993⟩