Communication Dans Un Congrès
Année : 2021
Pascal Brault : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03301475
Soumis le : mardi 27 juillet 2021-15:10:09
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:26:02
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-03301475 , version 1
Citer
Sara Ibrahim, Pascal Brault, Amael Caillard, Thierry Sauvage, Christian Chauveau, et al.. Deposition of Aluminum Nanostructured Films by DC Magnetron Sputtering for Hydrogen Production. SURFACES, INTERFACES AND COATINGS TECHNOLOGIES SICT2021, Apr 2021, Paris, France. ⟨hal-03301475⟩
Collections
40
Consultations
0
Téléchargements