High electron mobility in high-polarization sub-10 nm barrier thickness InAlGaN/GaN heterostructure - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Applied Physics Express Année : 2015

High electron mobility in high-polarization sub-10 nm barrier thickness InAlGaN/GaN heterostructure

Riad Kabouche
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1084918
Astrid Linge
  • Fonction : Auteur
Bertrand Grimbert
Malek Zegaoui
Piero Gamarra
  • Fonction : Auteur
Cédric Lacam
  • Fonction : Auteur
Maurice Tordjman
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-03028367 , version 1 (27-11-2020)

Identifiants

Citer

F Medjdoub, Riad Kabouche, Astrid Linge, Bertrand Grimbert, Malek Zegaoui, et al.. High electron mobility in high-polarization sub-10 nm barrier thickness InAlGaN/GaN heterostructure. Applied Physics Express, 2015, 8 (10), pp.101001. ⟨10.7567/APEX.8.101001⟩. ⟨hal-03028367⟩
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