Article Dans Une Revue
Applied Physics Letters
Année : 2016
Vincent Garcia : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-03007210
Soumis le : lundi 16 novembre 2020-11:45:02
Dernière modification le : mercredi 24 avril 2024-11:28:54
Citer
S. Boyn, A. Douglas, C. Blouzon, P. Turner, A. Barthélémy, et al.. Tunnel electroresistance in BiFeO 3 junctions: size does matter. Applied Physics Letters, 2016, 109 (23), pp.232902. ⟨10.1063/1.4971311⟩. ⟨hal-03007210⟩
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