Influence of sputtering conditions and annealing parameters on structure and morphology of NiTiO3 ilmenite thin films - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2020

Influence of sputtering conditions and annealing parameters on structure and morphology of NiTiO3 ilmenite thin films

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hal-02964878 , version 1 (17-10-2022)

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Paternité - Pas d'utilisation commerciale

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Citer

Meriem Chettab, Quentin Simon, Mustapha Zaghrioui, Cécile Autret-Lambert, Patrick Laffez. Influence of sputtering conditions and annealing parameters on structure and morphology of NiTiO3 ilmenite thin films. Thin Solid Films, 2020, 714, pp.138384. ⟨10.1016/j.tsf.2020.138384⟩. ⟨hal-02964878⟩
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