Characterization of resists and antireflective coatings by spectroscopic ellipsometry in the UV and deep-UV range - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 1996

Characterization of resists and antireflective coatings by spectroscopic ellipsometry in the UV and deep-UV range

Pierre Boher
  • Fonction : Auteur
Jean-Philippe Piel
  • Fonction : Auteur
  • PersonId : 1057374
Christophe Defranoux
  • Fonction : Auteur
Jean-Louis Stehle
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02540731 , version 1 (11-04-2020)

Identifiants

Citer

Pierre Boher, Jean-Philippe Piel, Christophe Defranoux, Jean-Louis Stehle, Louis Hennet. Characterization of resists and antireflective coatings by spectroscopic ellipsometry in the UV and deep-UV range. SPIE's 1996 International Symposium on Microlithography, Mar 1996, Santa Clara, United States. pp.608-620, ⟨10.1117/12.240988⟩. ⟨hal-02540731⟩
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