Moisture diffusion in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) dielectrics characterized with three techniques under clean room conditions

V. Cartailler (1) , G. Imbert (2) , N. Rochat (3) , C. Chaton , D. Vo-Thanh , D. Benoit (4) , G. Duchamp (1) , H. Fremont (1)

1 IMS - Laboratoire de l'intégration, du matériau au système
2 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]
3 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information
4 Ghent University Hospital, Ghent, Belgium

Domaines: Sciences de l'ingénieur [physics]; Micro et nanotechnologies/Microélectronique

V. Cartailler, G. Imbert, N. Rochat, C. Chaton, D. Vo-Thanh, et al.. Moisture diffusion in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) dielectrics characterized with three techniques under clean room conditions. Thin Solid Films, 2020, ⟨10.1016/j.tsf.2020.137874⟩. ⟨hal-02515324⟩