Bismuth-Based Thin Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering as Potential Photocatalytic Materials. - Archive ouverte HAL Accéder directement au contenu
Poster De Conférence Année : 2019

Bismuth-Based Thin Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering as Potential Photocatalytic Materials.

S. Ibrahim
  • Fonction : Auteur
Institut de Chimie de Clermont-Ferrand
A. Bousquet
Institut de Chimie de Clermont-Ferrand
CV
P. Bonnet
  • Fonction : Auteur
Institut de Chimie de Clermont-Ferrand
E. Tomasella
  • Fonction : Auteur
Institut de Chimie de Clermont-Ferrand
M. Sarakha
  • Fonction : Auteur
Institut de Chimie de Clermont-Ferrand
G. Monier
T. Sauvage

Domaines

Chimie

Stéphanie Bonnefoy  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal.science/hal-02500907

Soumis le : vendredi 6 mars 2020-14:04:24

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:08:15

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-02500907 , version 1 (06-03-2020)

Identifiants

  • HAL Id : hal-02500907 , version 1

Citer

S. Ibrahim, A. Bousquet, P. Bonnet, E. Tomasella, M. Sarakha, et al.. Bismuth-Based Thin Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering as Potential Photocatalytic Materials.. E-MRS 2019 Spring Meeting, May 2019, Nice, France. ⟨hal-02500907⟩

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