Moisture diffusion in dense SiO2 and ultra low k integrated stacks

V. Cartailler (1, 2) , G. Imbert (2) , V. Guyader (2) , M. Juhel (2) , P. Lamontagne (2) , M. Rafik (2) , D. Ney (2) , D. Benoit , C. Chaton , J. B. Moulard , G. Duchamp (1) , H. Fremont (1)

1 IMS - Laboratoire de l'intégration, du matériau au système
2 ST-CROLLES - STMicroelectronics [Crolles]

Domaines: Micro et nanotechnologies/Microélectronique

V. Cartailler, G. Imbert, V. Guyader, M. Juhel, P. Lamontagne, et al.. Moisture diffusion in dense SiO2 and ultra low k integrated stacks. IEEE International Integrated Reliability Workshop (IIRW), Nov 2019, Fallen Leaf Lake, United States. ⟨hal-02477172⟩