Poster De Conférence
Année : 2019
amael caillard : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02394285
Soumis le : mercredi 4 décembre 2019-16:53:11
Dernière modification le : lundi 11 mars 2024-13:52:03
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02394285 , version 1
Citer
Pierre-Laurent Coddet, Martin Mickan, Julien Vuillet, Amael Caillard, Thierry Sauvage, et al.. Pulsed-DC reactive magnetron sputtering process for the deposition of solid oxide electrochemical cell layers. 24th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 24), Jun 2019, Naples, France. ⟨hal-02394285⟩
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