Evolution and prevention of meltback etching: Case study of semipolar GaN growth on patterned silicon substrates

Michel Khoury , Olivier Tottereau (1) , Guy Feuillet (2) , Philippe Vennegues (1) , Jesús Zúñiga-Pérez (1)

1 CRHEA - Centre de recherche sur l'hétéroepitaxie et ses applications
2 CEA-LETI - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information

Domaines: Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Michel Khoury, Olivier Tottereau, Guy Feuillet, Philippe Vennegues, Jesús Zúñiga-Pérez. Evolution and prevention of meltback etching: Case study of semipolar GaN growth on patterned silicon substrates. Journal of Applied Physics, 2017, 122, pp.105108. ⟨10.1063/1.5001914⟩. ⟨hal-02391999⟩