Article Dans Une Revue
Scientific Reports
Année : 2017
Jean-Luc Maurice : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02349133
Soumis le : mardi 5 novembre 2019-15:26:05
Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:53:13
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02349133 , version 1
- DOI : 10.1038/srep43968
- PUBMEDCENTRAL : PMC5338295
Citer
Wanghua Chen, Romain Cariou, Gwenaëlle Hamon, Ronan Léal, Jean-Luc Maurice, et al.. Influence of deposition rate on the structural properties of plasma-enhanced CVD epitaxial silicon. Scientific Reports, 2017, 7 (1), ⟨10.1038/srep43968⟩. ⟨hal-02349133⟩
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