A new criterion to quantify the DC and RF electrical response of an electrical contact subject to fretting wear

B. Benarabi (1) , J. Laporte , B. Bayard (2) , S. Fouvry (3) , J. Sautel (4) , L. Petit (5)

1 LHC - Laboratoire Hubert Curien
2 DIOM - Dispositifs et Instrumentation en Optoélectronique et micro-ondes
3 LTDS - Laboratoire de Tribologie et Dynamique des Systèmes
4 Radiall
5 IBPS-IP - Imagerie Cellulaire et Cytométrie de Flux [IBPS]

Domaines: Sciences de l'ingénieur [physics]; Matériaux; Micro et nanotechnologies/Microélectronique; Mécanique [physics.med-ph]

B. Benarabi, J. Laporte, B. Bayard, S. Fouvry, J. Sautel, et al.. A new criterion to quantify the DC and RF electrical response of an electrical contact subject to fretting wear. Wear, 2018, 412-413, pp.82-91. ⟨10.1016/j.wear.2018.07.017⟩. ⟨hal-02347658⟩