Communication Dans Un Congrès
Année : 2014
Maxime Darnon : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://hal.science/hal-02339981
Soumis le : mercredi 30 octobre 2019-15:49:57
Dernière modification le : jeudi 4 avril 2024-18:23:38
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : hal-02339981 , version 1
Citer
Mokrane Mebarki, Maxime Darnon, Cecile Jenny, Nicolas Posseme, Delia Ristoiu, et al.. Interaction between the plasma & mask materials during the contact etching for 14FDSOI. AVS 61st international symposium, Oct 2014, Baltimore, United States. ⟨hal-02339981⟩
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